E-Beam-1是單口的E-Beam（電子束）蒸發源。這款專業設計的電子束蒸發源能夠實現對目標材料的精準局部加熱，突破了傳統K-Cell蒸發源的溫度限制。即使面對極高熔點的金屬材料（比如Mo、Ta、 W等），也能確保高效且可控的蒸發過程，從而獲得純凈度極高的薄膜層。配備先進的PID控制器，用戶可以根據實際需求選擇恒定功率(constant power)模式或恒定束流(constant flux)模式進行精確調控，確保薄膜沉積速率的一致性和穩定性。