離子源（Ion Source），顧名思義，發(fā)射離子的。俗稱離子槍。又因通常用Ar作為工作氣體，發(fā)射出Ar+，所以也稱氬槍。高能量的Ar+（幾百到幾千eV）轟擊到樣品表面，可以對(duì)樣品表面起到清潔作用，是超高真空系統(tǒng)中最常用的樣品濺射清潔裝置。
主要參數(shù)：
| 安裝法蘭 | DN 40CF (non-rotatable) |
| 能量范圍 | 0.12 keV – 5 keV |
| 電流密度 | > 120 μA/cm2 (for distance 30 mm) |
| 屏蔽罩 | Cu, stainless steel (for reactive gases) |
| 陰極種類 | yttrium oxide coated iridium filament |
| 真空內(nèi)長(zhǎng)度 | min. 62.5 mm, other on request OD: max. 37 mm |
| FWHM | dependent on ion energy and working distance (e.g. 3 mm for distance 30 mm) |
| 典型工作距離 | 30 – 250 mm |
| 烘烤溫度 | up to 250°C |
| 工作氣壓 | 10-5 – 10-6 mbar |
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